展示会

2024年10月30日(水)~11月1日(金)

WaferBond 2024 EAST
LTB-3D 2024
奈良市
展示会

2024年7月4日(木)~5日(金)

実装フェスタ関西2024 
パナソニックリゾート大阪
展示会

2024年4月17日(水)~20日(土)

ICEP2024
富山国際会議場

学会発表
2023年7月6日(木)~7日(金)

実装フェスタ関西2023 
パナソニックリゾート大阪 
学会発表

2023年4月19日(水)から22日(土)

エレクトロニクス実装学会(JIEP)
熊本市民会館シアーズホーム夢ホール
ICEP 2023(国際会議)

展示会

2023年4月19日(水)~20日(木)

KFCホール(東京・両国)丸紅情報システムズ
MEMS Engineer Forum (MEF)2023
学会発表

2021年5月12日(水)~13日(金)

ICEP2021東京 Poster発表
" Hybrid Bonding by surface activation and WOW COW system with high alignment accuracy "

【展示会】
2021317日~19
セミコンチャイナ展示
【展示会】
2020318日~20
セミコンチャイナ展示
【展示会】
2020年1月15日~17日

第34回 ネプコン ジャパンに出展(丸紅情報システムズブース)
会場 東京ビッグサイト 小間番号W19-15

【展示会】

20191204 20191206

3 接着・接合 EXPOに出展(PMTブース)
会場 東京ビッグサイト

学会展示

2019521{}25日(金)

LTB-3D 2019 金沢に出展
【展示会】
2019116()118()

第48回 インターネプコン ジャパンに出展(丸紅情報システムズブース)

会場 東京ビッグサイト 小間番号E1-32
【展示会】
2018年12月12日~14日
セミコンジャパン展示(丸紅情報システムズブース)
【招待講演】
2018年10月25日 台湾IMPACT 招待講演
"High accuracy alignment and Low temperature bonding by Surface Activated Bonding"
【展示会】
2018年10月23日~26日
台湾IMPACT 展示(AMPOCブース)
【学会展示】
2018年7月12日~13日
エレクトロニクス実装学会 関西WS 展示
【学会発表】
2017年5月16日~18日 LTB-3D 2017
"Novel Sequential Plasma Activation Method for Direct Glass Bonding"
【学会発表】
2016年10月3日~7日 ESSPRIME2016 in Hawaii
"Combined Surface Activated Bonding Technique for Low-Temperature Cu/Dielectric Hybrid Bonding"東京大学須賀研究室共同発表
【学会発表】
2016年9月8日~9日 IJIEP MES2016 中京大学
"Combined Surface Activated Bonding Technique for Low-Temperature Cu/Dielectric Hybrid Bonding"東京大学須賀研究室共同発表
【学会発表】
2015年10月22日 IMPACT in Taipei
"Surface Activation Bonding-A Low Temperature bonding process for next generation interconnect technology"発表
【学会発表】
2015年3月18日  エレクトロニクス実装学会春季講演会
"Combined Surface Activated Bonding Technologies for New Approach to Low Temperature Wafer Bonding"東京大学須賀研究室共同発表
【学会発表】
"2014年10月8日  ECS2014 in CANCUN
"Combined Surface Activated Bonding Technologies for New Approach to Low Temperature Wafer Bonding"東京大学須賀研究室共同発表
【受賞】
2012年2月25日  京都中小企業優秀技術賞
"表面活性化大口径半導体ウエハー接合装置" 受賞
【メディア掲載】
2011年10月28日 日刊工業新聞に掲載
「革新の遺伝子 京都企業の挑戦」”位置決め高精度武器に”
【メディア掲載】
2011年8月5日 電子ジャーナルに掲載。
”2011マイクロマシン/MEMS技術大全 ウエハー接合装置”投稿
【メディア掲載】
2011年6月3日 化学工業新聞に掲載。
”無機ウエハーを常温接合 3次元積層などに”
【メディア掲載】
2011年6月3日 化学新聞に掲載。
”ナノ接着層による常温接合”
【講演会】
2011年2月16日  三菱UFJ技術育成財団
"半導体製造装置位置決め独自技術と当社のビジネスモデル”講演
【メディア掲載】
2011年2月15日 京都新聞に掲載。
「こんにちは研究室」”極小の接合技術に挑む”
【メディア掲載】
2010年7月22日 日刊工業新聞に掲載。
”丸紅情報システムズ、ボンドテック社製の表面活性化接合装置の新製品を発表”
【メディア掲載】
2010年7月1日 日経新聞に掲載。
”半導体積層化 低温で可能に”
【メディア掲載】
2010年6月21日 日経産業新聞に掲載。
”ウエハー同士高精度に接合 赤外線でずれ補正 工程、大幅に省略”
【メディア掲載】
2010年5月25日 日経産業新聞に掲載。
”多層半導体製造装置 誤差0.2マイクロ内でチップ設置”
【学会発表】
2010年3月12日  エレクトロニクス実装学会春季講演会
”高精度高真空接合装置の開発”発表
【講演会】
2010年2月16日  日本フォトファブリケーション協会
携帯電話におけるカメラモジュールの技術動向と展望
"Room Temperature 3D packaging by Surface Activated Bonding and UV imprint technology (CIS Lens forming and Wafer Level Packaging)"講演
【講演会】
2009年11月18日  NEアカデミー
日経マイクロデバイスセミナー
”低温低圧接合技術、4種類の表面活性と超高精度アライメントで量産へ”講演
【メディア掲載】
2009年11月号 国際ジャーナルに掲載。
”技術革新の最前線で屈指の開発力を誇る躍進のベンチャー企業「ボンドテック」”
【メディア掲載】
2009年8月5日 半導体産業新聞に掲載。
”接合装置ベンチャー、ボンドテックが始動 
高精度アライメントでMEMS、3次元実装に進出 CISにも多くの引き合い”
【メディア掲載】
2009年8月号 電子ジャーナルに掲載。
”マイクロマシン/MEMS用位置合わせ・貼り合わせ装置”投稿
【学会発表】
2008年12月3日 SEMI SIS2008
"Surface Activated Bonding Technology and MEMS application"発表
【学会発表】
2008年10月12日 ECS2008 Honolulu
10th International Symposium on Semiconductor Wafer Bonding Science, Technology and Applications
"Hybrid Bonding (Plasma activation and Anodic bonding) for Vacuum Sealing"発表