【学会発表】 |
2015年3月18日 エレクトロニクス実装学会春季講演会 |
"Combined Surface Activated Bonding Technologies for New Approach
to Low Temperature Wafer Bonding"東京大学須賀研究室共同発表 |
【学会発表】 |
"2014年10月8日 ECS2014 in CANCUN |
"Combined Surface Activated Bonding Technologies for New Approach
to Low Temperature Wafer Bonding"東京大学須賀研究室共同発表
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【受賞】 |
2012年2月25日 京都中小企業優秀技術賞 |
"表面活性化大口径半導体ウエハー接合装置" 受賞 |
【メディア掲載】 |
2011年10月28日 日刊工業新聞に掲載 |
「革新の遺伝子 京都企業の挑戦」”位置決め高精度武器に” |
【メディア掲載】 |
2011年8月5日 電子ジャーナルに掲載。 |
”2011マイクロマシン/MEMS技術大全 ウエハー接合装置”投稿 |
【メディア掲載】 |
2011年6月3日 化学工業新聞に掲載。 |
”無機ウエハーを常温接合 3次元積層などに” |
【メディア掲載】 |
2011年6月3日 化学新聞に掲載。 |
”ナノ接着層による常温接合” |
【講演会】 |
2011年2月16日 三菱UFJ技術育成財団 |
"半導体製造装置位置決め独自技術と当社のビジネスモデル”講演 |
【メディア掲載】 |
2011年2月15日 京都新聞に掲載。 |
「こんにちは研究室」”極小の接合技術に挑む” |
【メディア掲載】 |
2010年7月22日 日刊工業新聞に掲載。 |
”丸紅情報システムズ、ボンドテック社製の表面活性化接合装置の新製品を発表” |
【メディア掲載】 |
2010年7月1日 日経新聞に掲載。 |
”半導体積層化 低温で可能に” |
【メディア掲載】 |
2010年6月21日 日経産業新聞に掲載。 |
”ウエハー同士高精度に接合 赤外線でずれ補正 工程、大幅に省略” |
【メディア掲載】 |
2010年5月25日 日経産業新聞に掲載。 |
”多層半導体製造装置 誤差0.2マイクロ内でチップ設置” |
【学会発表】 |
2010年3月12日 エレクトロニクス実装学会春季講演会 |
”高精度高真空接合装置の開発”発表 |
【講演会】 |
2010年2月16日 日本フォトファブリケーション協会 |
携帯電話におけるカメラモジュールの技術動向と展望
"Room Temperature 3D packaging by Surface Activated Bonding and UV imprint technology (CIS Lens forming and Wafer Level Packaging)"講演 |
【講演会】 |
2009年11月18日 NEアカデミー |
日経マイクロデバイスセミナー
”低温低圧接合技術、4種類の表面活性と超高精度アライメントで量産へ”講演 |
【メディア掲載】 |
2009年11月号 国際ジャーナルに掲載。 |
”技術革新の最前線で屈指の開発力を誇る躍進のベンチャー企業「ボンドテック」” |
【メディア掲載】 |
2009年8月5日 半導体産業新聞に掲載。 |
”接合装置ベンチャー、ボンドテックが始動
高精度アライメントでMEMS、3次元実装に進出 CISにも多くの引き合い” |
【メディア掲載】 |
2009年8月号 電子ジャーナルに掲載。 |
”マイクロマシン/MEMS用位置合わせ・貼り合わせ装置”投稿 |
【学会発表】 |
2008年12月3日 SEMI SIS2008 |
"Surface Activated Bonding Technology and MEMS application"発表 |
【学会発表】 |
2008年10月12日 ECS2008 Honolulu |
10th International Symposium on Semiconductor Wafer Bonding Science, Technology and Applications
"Hybrid Bonding (Plasma activation and Anodic bonding) for Vacuum Sealing"発表
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